Optinization of one- and two-dimenasional masks in the optical lithography

Farkas, Richárd (2003) Optinization of one- and two-dimenasional masks in the optical lithography. Masters, Szegedi Tudományegyetem.

	PDF 2003_farkas_richard_03_43.pdf Hozzáférés joga: SZTE designated computers only Download (13MB)
	PDF 2003_farkas_richard_03_43_velemeny.pdf Hozzáférés joga: Repository staff only Download (1MB)

Institution

Szegedi Tudományegyetem

Faculty

Faculty of Science and Mathematics

Department

Számítástudományi Tanszék

Discipline

Informatics

Institute

Informatikai Tanszékcsoport

Specialization

közgazdasági programozó matematikus

Supervisor(s)

Item Type:	Thesis (Masters)
Subjects:	01. Natural sciences > 01.02. Computer and information sciences
Depositing User:	TTK szerkesztő
Date Deposited:	2011. Mar. 10. 15:14
Last Modified:	2013. Mar. 14. 06:59
URI:	https://diploma.bibl.u-szeged.hu/id/eprint/655

Actions (login required)

View Item